荷兰进口光刻机是多少纳米的制程?

荷兰进口的光刻机主要分为DUV和EUV两种类型。DUV光刻机能达到7纳米制程，适用于成熟芯片生产。EUV光刻机则是最先进的，可实现3纳米以下制程，用于高端芯片制造。目前中国进口的EUV光刻机多为7纳米级别，更先进的3纳米机型受到出口限制。

光刻机的技术参数

光刻机的制程精度决定了芯片的尺寸。7纳米光刻机可以生产手机处理器、显卡等芯片。3纳米光刻机能制造更小更快的芯片，用于人工智能和超级计算机。一台EUV光刻机重达180吨，价值上亿美元，是半导体工业的核心设备。荷兰阿斯麦公司是全球唯一能生产EUV光刻机的厂商。