湿法刻蚀的意义是什么?

湿法刻蚀是利用化学溶液去除材料表面的技术，在半导体制造中用于精确雕刻电路图案。它能处理各种材料，如硅、金属和氧化物，适合复杂形状的加工。刻蚀深度可控，表面平整度高，常用于制作微米级结构。与干法刻蚀相比，设备成本低，适合大规模生产，但会产生化学废液需要处理。

湿法刻蚀的应用

湿法刻蚀在芯片制造中用于清洗晶圆表面，去除氧化层和杂质。它能制造微机电系统的精密零件，如传感器和执行器。太阳能电池板生产中，它用于刻蚀硅片形成电路。医疗设备领域，它用于加工微型器械和植入物。刻蚀速率可通过调整溶液浓度和温度控制，满足不同工艺需求。