中国有光刻机吗与外国的差距是什么?

中国已有光刻机，但与外国差距较大。荷兰ASML的EUV光刻机能制造7纳米以下芯片，中国最先进的是DUV光刻机，只能生产28纳米芯片。上海微电子的28纳米光刻机已进入测试阶段，但量产时间未定。华为等企业仍依赖进口设备，国产光刻机在精度和稳定性上不足。

光刻机技术差距

光刻机需要10万个精密零件，德国蔡司的镜头精度达0.01纳米。中国镜头技术落后，光源、软件等核心部件依赖进口。ASML的EUV光刻机售价1.2亿美元，中国研发成本高，人才短缺。光刻机生产周期长达3年，中国产业链不完善，追赶难度大。