刻蚀机和光刻机一样吗?

刻蚀机和光刻机不一样。刻蚀机是去除材料表面的部分，形成图案；光刻机是把图案转移到材料上。两者在芯片制造中分工不同，光刻机先“画”图案，刻蚀机再“雕刻”图案。

区别

刻蚀机：刻蚀机用化学或物理方法去除不需要的材料，形成三维结构。它像一把雕刻刀，直接在晶圆上“挖”出沟槽或孔洞。刻蚀精度可达几纳米，速度较快，每小时可处理数百片晶圆。

光刻机：光刻机用紫外光或极紫外光将电路图案投射到晶圆上，涂有光刻胶的晶圆会留下图案。它像一台高精度投影仪，分辨率可达几纳米，但速度较慢，每小时处理几十片晶圆。