投影光刻机和浸入式光刻机的区别?

投影光刻机和浸入式光刻机都是芯片制造中的关键设备，主要区别在于光刻方式。投影光刻机通过透镜将掩模版上的图案投影到硅片上，而浸入式光刻机在镜头和硅片间填充液体（如超纯水），提高分辨率。浸入式光刻机更适合先进制程，而投影光刻机多用于成熟工艺。

区别

投影光刻机：使用干式光刻技术，镜头与硅片之间为空气环境。分辨率受限于透镜数值孔径，一般用于90纳米以上制程。设备结构相对简单，维护成本较低，适合大规模生产成熟芯片。单次曝光可覆盖较大面积，效率较高，但无法满足7纳米以下先进工艺需求。

浸入式光刻机：在镜头和硅片间注入液体介质，形成液浸环境。液体折射率高于空气，使等效数值孔径提升，分辨率可达38纳米以下。需配备精密液体循环系统，维护复杂，成本较高。主要用于7纳米及以下先进制程，是当前高端芯片制造的主流设备。