sem和光刻机区别?

SEM（扫描电子显微镜）是用于观察微观表面形貌的仪器，而光刻机是制造芯片的核心设备，两者用途完全不同。SEM通过电子束成像，分辨率可达纳米级；光刻机通过紫外光或极紫外光将电路图案转移到硅片上，精度要求更高。

区别

SEM：主要用于科研和工业检测，能放大物体表面几千倍，帮助观察材料细节。操作相对简单，样品无需复杂处理，适合多种材料分析。价格较低，实验室普遍配备。

光刻机：用于芯片制造，精度以纳米计算，决定芯片性能。技术难度极高，涉及光学、机械、化学等多领域。一台设备价值数亿元，全球仅少数企业能生产。