蚀刻机与光刻机有什么区别呢?

蚀刻机和光刻机都是制造芯片的关键设备，但工作原理完全不同。蚀刻机用化学方法去除不需要的材料，形成电路图案；光刻机则通过光照射将电路图案转移到晶圆上，精度更高。

区别

蚀刻机：主要功能是腐蚀材料，用化学液体或等离子体去除晶圆上多余的部分，留下设计的电路。蚀刻速度较快，成本较低，适合加工较简单的结构，比如手机屏幕的导电层。但它精度有限，无法制造纳米级精细线条，依赖光刻机预先画出图案。

光刻机：核心是利用紫外光或极紫外光，通过掩模版将电路图案精确投射到晶圆上，再结合蚀刻形成完整电路。光刻机精度可达纳米级别，是制造高端芯片的核心设备，比如电脑CPU和显卡。它价格昂贵，一台机器价值上亿元，且技术门槛极高，全球只有少数企业能生产。