pr无场和低场有什么区别?

PR无场和低场是两种不同的核磁共振成像技术，主要区别在于磁场强度和成像效果。无场使用零磁场，适合特殊环境；低场磁场强度较低，成本较低但图像清晰度稍差。

区别

PR无场：完全不需要磁场，利用光学或其他物理原理成像，不受金属干扰，适合危险环境或特殊检测。设备体积小，便携性强，但分辨率较低，难以观察细微结构。价格昂贵，维护复杂，多用于军事或科研领域。

PR低场：磁场强度在0.2至1特斯拉之间，成像速度较慢，对运动伪影敏感。设备成本适中，操作简单，适合基层医院或初步筛查。图像对比度较好，但细节表现不如高场，无法满足精细诊断需求。