蚀刻和光刻有什么区别?

蚀刻是用化学溶液或物理方法去除材料表面不需要的部分，形成图案或凹槽。光刻则是通过光照和光刻胶在材料表面精确转移图形，常用于制造微电子器件。

区别

蚀刻：主要依赖化学反应或机械磨损，适合加工金属、玻璃等硬质材料，精度较低，加工速度较快，成本较低，常用于制作金属标牌、装饰品或简单电路板。

光刻：利用紫外线或电子束曝光技术，在硅片等半导体材料上绘制微米级图形，精度极高，工艺复杂，成本昂贵，主要用于芯片制造和精密电子元件生产。