抛光与研磨的区别?

抛光是利用研磨剂使物体表面光滑的过程，主要追求镜面效果；研磨则是通过磨料去除材料表面，以达到精确尺寸或平整度。两者目的不同，抛光侧重美观，研磨侧重精度。

区别

抛光：使用细磨料如氧化铝或钻石粉，通过高速旋转的抛光轮反复摩擦，去除细微划痕，形成反光表面。常见于金属镜面处理、宝石打磨，耗时较长，每平方厘米需处理5-10分钟，最终呈现镜面光泽。

研磨：采用粗磨料如砂轮或砂纸，通过机械压力磨削材料，快速去除表面凸起，控制尺寸误差。多用于机械零件加工、玻璃切割，效率较高，每分钟可去除0.1-0.5毫米材料，结果为平整但无光泽的表面。