模具普通抛光跟精抛光的区别?

模具抛光分为普通抛光和精抛光两种，主要区别在于加工精度、表面质量和适用场景。普通抛光处理速度快，成本较低，适合一般工业需求；精抛光则追求极致光滑度，耗时较长，多用于高精度产品如光学元件或医疗器械。

区别

普通抛光：使用较粗的研磨工具，去除表面毛刺和明显瑕疵，粗糙度可达0.8微米左右。加工效率高，适合批量生产，但表面可能存在细微划痕，不适用于对光洁度要求极高的场合。成本较低，一般工厂均可完成。

精抛光：采用超细研磨材料或化学抛光，将表面粗糙度控制在0.1微米以下，达到镜面效果。需多次反复处理，耗时是普通抛光的3-5倍。常用于精密模具、半导体设备等高端领域，能显著提升产品外观和性能，但费用较高。