华为光刻机同荷兰的区别?

华为光刻机主要面向国内市场，技术聚焦成熟制程，性价比高。荷兰光刻机以ASML为代表，覆盖全球高端市场，技术领先，精度极高，价格昂贵。

区别

华为光刻机：采用国产技术，支持28纳米及以上制程，适合中低端芯片生产。设备维护成本较低，交货周期短，适合国内中小企业需求。年产量约50台，价格约为荷兰设备的1/5。

荷兰光刻机：使用EUV技术，支持7纳米以下制程，精度达到纳米级。全球市场份额超过90%，一台设备售价超过1亿欧元。需要专业团队维护，交货周期长达2年，主要服务于台积电、三星等大厂。