光源样机和光刻机的区别?

光源样机是用于测试光源性能的实验设备，而光刻机是用于芯片制造的精密仪器。

区别

光源样机：主要用于验证光源的技术参数，比如亮度、稳定性等。它结构相对简单，成本较低，研发周期短，通常在实验室环境中使用。样机数量少，主要用于技术验证，不涉及大规模生产。

光刻机：是芯片制造的核心设备，精度要求极高，能将电路图案精确转移到晶圆上。它结构复杂，包含光学、机械、控制系统等多个模块，成本可达数亿元，主要用于量产芯片，对稳定性和可靠性要求极高。