蚀刻机跟光刻机有什么区别?

蚀刻机和光刻机都是制造芯片的关键设备，但功能不同。蚀刻机用于去除材料表面不需要的部分，形成图案；光刻机则通过光刻胶和光刻版将电路图案转移到晶圆上。前者侧重于“雕刻”，后者侧重于“印刷”。

区别

蚀刻机：蚀刻机好比一把精密的刻刀，用化学或物理方法“挖掉”不需要的材料。它处理的是已经初步成型的晶圆，通过腐蚀或离子轰击精确去除特定区域。蚀刻精度在纳米级别，速度较快，适合大批量生产，但依赖光刻机预先绘制的图案。常见于半导体、电路板制造。

光刻机：光刻机像一台高精度的“投影仪”，将电路设计图通过光束和掩膜版“印”到涂有光刻胶的晶圆上。它决定芯片的最小线宽，精度可达几纳米。过程复杂，涉及光源、对准、曝光等步骤，速度较慢，但直接决定芯片性能。荷兰ASML的极紫外光刻机是目前最先进的型号。