光刻机和激光雕刻机的区别?

光刻机主要用于芯片制造，通过光将电路图案转移到硅片上，精度极高，可达纳米级别。激光雕刻机则用于在材料表面雕刻图案，精度较低，适合金属、木材等材料加工。

区别

光刻机：光刻机是半导体行业的核心设备，使用紫外线或极紫外光照射掩模版，将精细电路图案转移到硅晶圆上。一台光刻机价值上亿元，每天能处理数千片晶圆，精度可达5纳米以下。它主要用于制造手机、电脑等电子产品的芯片，技术门槛极高，全球只有少数企业能生产。

激光雕刻机：激光雕刻机通过高能激光束在材料表面烧蚀或气化，形成图案或文字。价格从几千元到几十万元不等，适合小批量生产。它常用于制作广告牌、礼品或工业零件，可雕刻金属、塑料、玻璃等多种材料，速度较快，但精度通常在0.1毫米以上，远低于光刻机。