光刻机90纳米与7纳米的区别?

光刻机90纳米与7纳米的区别在于制程精度和应用领域。90纳米技术用于成熟芯片生产，如家电控制器；7纳米代表顶尖工艺，用于手机处理器等高性能芯片。

区别

90纳米光刻机：采用深紫外光技术，线条宽度约90纳米，适合大规模生产，成本低，效率高。常用于汽车电子、智能家居等对性能要求不高的领域，芯片功耗较大，集成度中等。

7纳米光刻机：使用极紫外光技术，线条宽度仅7纳米，精度极高。能集成更多晶体管，芯片体积更小、功耗更低，适合5G通信、人工智能等高端领域。设备复杂，造价昂贵，技术门槛极高。