中微半导体和上海微电子区别?

中微半导体专注于等离子体刻蚀设备研发，上海微电子专注光刻机制造。两者均属于半导体设备领域，但技术方向不同。

区别

中微半导体：主要开发芯片制造中的刻蚀设备，用于在晶圆上精细雕刻电路图案。产品包括5纳米及以下工艺的刻蚀机，客户包括台积电、三星等国际大厂。公司成立于2000年，总部在上海浦东，员工约2000人。

上海微电子：国内唯一能研发生产90纳米光刻机的企业，光刻机是芯片制造的核心设备。其光刻机用于晶圆曝光，精度达22纳米。公司成立于2002年，总部在上海浦东，员工约3000人，承担国家重大科技项目。