真空镀膜有什么区别?

真空镀膜是在真空环境下通过物理或化学方法在物体表面镀上一层薄膜的技术，主要分为真空蒸镀和磁控溅射两种方式，前者加热材料使其蒸发，后者利用离子轰击靶材沉积薄膜。

区别

真空蒸镀：将材料放入真空腔体中加热蒸发，蒸发的原子在基材表面凝结成膜。这种方法设备简单，成本较低，适合镀铝、银等金属膜，但膜层附着力较弱，均匀性较差，不适合复杂形状的工件。

磁控溅射：利用高能离子轰击靶材，使靶材原子溅射到基材表面形成薄膜。这种方法沉积速率高，膜层致密均匀，附着力强，适合镀钛、氮化钛等硬质膜，可处理复杂形状工件，但设备复杂，成本较高。