光刻制程7纳米和10纳米哪个好?

7纳米光刻制程比10纳米更先进，性能更强，功耗更低。

对比

7纳米制程：采用更精细的工艺，晶体管密度提升约40%，芯片运行速度提高20%，耗电减少30%。适合高性能设备，如旗舰手机和电脑，能支持更复杂的应用，同时发热量更小。

10纳米制程：工艺相对成熟，成本较低，生产效率高。芯片性能满足日常需求，如中端手机和普通电脑，适合预算有限的用户。功耗和发热量稍高，但稳定性好，适合长时间使用。