负性光刻胶和正性光刻胶哪个精度高?

正性光刻胶的精度比负性光刻胶高。

对比

正性光刻胶：分辨率能达到1微米以下，适合精细图案制作。曝光后，未受光照部分保留，受光照部分溶解，边缘清晰，适合高密度电路。成本较高，工艺步骤多，需要精确控制曝光时间和显影条件。

负性光刻胶：分辨率一般在2微米以上，适合较大图案。曝光后，受光照部分硬化，未受光照部分溶解，边缘易膨胀，精度较低。成本较低，工艺简单，适合普通精度要求的场景。