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MEMS芯片制造难度高于传统芯片,因为MEMS需要结合微机械结构与电子电路,工艺更复杂,精度要求更高,且良品率控制难度大。
对比
MEMS芯片:制造过程涉及光刻、蚀刻、沉积等多步骤,需精确控制微米级机械结构,同时兼容电子元件。材料选择严格,硅、玻璃等需特殊处理,结构脆弱易损,良品率仅60%-70%,成本高,生产周期长。
传统芯片:主要关注电子元件集成,工艺成熟,光刻和蚀刻标准统一,结构相对简单,材料以硅为主,良品率可达90%以上,量产效率高,成本较低。
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