光刻机和刻蚀机哪个更精密?

光刻机比刻蚀机更精密。光刻机需要在纳米级精度下绘制电路图案，误差需控制在几纳米以内；刻蚀机虽然也要求高精度，但主要任务是去除材料，精度要求稍低。

对比

光刻机：光刻机像超级精细的“画笔”，要在硅片上画出几纳米宽的线条。它的镜头、光源和移动系统必须达到原子级精度，否则芯片就会报废。一台高端光刻机有超过10万个零件，任何一个微小误差都会导致整块硅片作废。

刻蚀机：刻蚀机像“雕刻刀”，按照光刻机画好的图案刻蚀材料。它需要精确控制等离子体或化学物质，去除多余部分。虽然精度要求高，但允许的误差范围比光刻机大一些，大约是光刻机的2-3倍。