光刻机难点在于镜头还是光源?

光刻机的难点主要在于光源，因为光源需要极高的稳定性和精度，直接影响芯片的线宽和良率。

对比

光源：光刻机使用的光源波长必须达到极高水平，目前最先进的EUV光源需要将液态锡转化为等离子体，产生13.5纳米的光线。这个过程能量消耗巨大，每秒发射5万个脉冲，且必须保持稳定运行。任何微小的波动都会导致芯片缺陷，制造难度极高。

镜头：镜头虽然也需要极高的精度，但技术相对成熟。EUV镜头由多层反射镜组成，每层平整度需控制在原子级别，但制造工艺已经稳定，主要挑战在于如何保持长期使用的稳定性和清洁度，难度低于光源。