光刻机和刻蚀机哪个重要?

光刻机和刻蚀机都是芯片制造的关键设备，但光刻机更重要。光刻机决定了芯片的最小线宽，直接决定了芯片的性能和集成度，而刻蚀机负责将光刻图案转移到晶圆上，属于后续步骤。没有光刻机，芯片制造无法启动；没有刻蚀机，光刻图案无法实现。因此，光刻机是芯片制造的“心脏”，刻蚀机则是“手术刀”。

对比

光刻机：光刻机通过曝光技术将电路图案转移到晶圆上，精度可达纳米级，一台高端光刻机价值上亿元，需要数万零件组装，全球仅少数企业能生产。它决定了芯片的极限性能，比如5纳米芯片必须依赖极紫外光刻机。光刻机研发周期长达10年，技术壁垒极高，一旦被卡脖子，整个芯片产业将停滞。

刻蚀机：刻蚀机用等离子体或化学物质去除晶圆多余部分，精度仅次于光刻机。一台刻蚀机价格约5000万元，维护成本较低，技术难度比光刻机小。刻蚀机影响芯片的良率和均匀性，但即使刻蚀机落后，仍可通过工艺优化弥补。全球刻蚀机供应商更多，国产化进度也更快。